该厂为85英寸晶圆生产销售线配建的超去离子水设计，每周诞生含硅电镀废水150吨。电镀废池里虽无高价属，但硅含氧量高易积垢，且功率电阻率需可达到18MΩ·cm能力使用。已有工作工艺设备就没有办法能够满足新实行的《电子为了满足电子时代发展的需求，产业水影响物排卸条件》（GB39731-2020）很大排卸卫生防护距离。 废水处理含量的特点 主要水空气污染物 ：胶体溶液硅（200-300mg/L）、粒子硅（孔径0.1-1μm） 非常规规定 ：TOC<10μg/L，硼浓度<5μg/L 水质标准基本特性 ：低导电率（<50μS/cm）但硅无机化合物型态有难度 除理技艺过程 不断创新主要包括"梯级膜分离法+电去阴阳离子"组合构成工艺设备： 微滤废水处理工艺 ：1μm陶瓷厂家膜阻止大颗粒剂硅，通量保护80LMH 铁离子互转光敏树脂 ：D201大孔环氧树脂会保护性降解硅酸团伙 二级考试RO软件系统 ：首段回收公司率60%，2段运用高脱硼膜器件 EDI电去化合物 ：电流量溶解度2A/m²，持续时间的还原稳定度阴离子 UV紫外线杀菌的 ：254nmUV太阳光线标准容量40mJ/cm² 水平成效 开发管理通用型阻硅剂（无机胺类混合物），推迟膜破坏周期时间3倍 EDI接口科学创新流道构思，硅消除率升高至99.8% 网上硅研究检测仪（测试范围图0.1-500μg/L）建立优质掌控 开机运行效果 经第三个方测量： 总硅从280mg/L降落到0.05mg/L 硼量从8μg/L减至0.3μg/L 设备二手回成品率从原40%不断提升至68% 膜替换过渡期拉长至5年，年进行直接费用降低了35%