某半导体材料基带芯片制造出厂在晶圆加工厂进程中，实用硅烷参与硅外加繁殖，烟气洗條塔出显高有机废气浓度含硅生活污水。生活污水有着pH价格波动大（2-11）、硅硫含量高的特色，传统意义正确处理技术易出显硅垢堵住了难题。 污废水 含量及源 污水重要成分表为： 融化性硅酸盐 ：SiO₂含量达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢腐蚀钠 ：干洗塔碱酸干洗液无残留 粒子硅 ：納米级SiO₂悬浊液 痕量砷 ：主料钙镁离子带到 处理加工制作工艺 程序流程 革新运用"多级采和+膜过滤清洁+蒸发掉结晶体"方法： 第一结合 ：用CaO上下调整pH至4-5，转化成硅酸钙析出，硅除掉率60%。 五级结合 ：加Na₂CO₃将pH提高了至9，进步骤沉垫剩的硅，串联用镁剂除砷。 反渗透装置体统 ：0.02μm淘瓷膜过滤程序微米级硅粒状，通量固定在80LMH。 MVR化掉器 ：溶缩高盐污废水 ，结晶体出Na₂SO₄副设备，水使用率超90%。 最终能够作用 总硅从1500mg/L减少为5mg/L下面 砷水平从0.8mg/L减少为0.01mg/L 控制系统无积灰启用超出2年 年再利用硝酸钠钠尖晶石约800吨